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蘇州半導體晶圓等離子清洗機原理：通過對工藝氣體施加電場使之電離化成為等離子體。等離子體的“活性”組成包括：離子、電子、原子、自由 活性基團、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子處理就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來氧化、還原、裂解、交聯(lián)和聚合等物理和化學反應改變樣品表面性質(zhì)，從而優(yōu)化材料表面性能，實現(xiàn)清潔、改性、刻蝕等目的。

真空等離子清洗機在現(xiàn)在的工業(yè)生產(chǎn)中起到很重要的作用，現(xiàn)在清洗機在很多企業(yè)中都是*的清洗設備。等離子清洗不需要添加任何溶劑，且無有害物質(zhì)產(chǎn)生，也通常被叫做環(huán)保型的干式清洗。那么，真空等離子清洗機的效果。

大氣等離子清洗設備的大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性粒子，作用到固體樣品表面，不但清除了表面原有的污染物和雜質(zhì)，而且會產(chǎn)生刻蝕作用，將樣品表面變粗糙，形成許多微細坑洼，增大了樣品的比表面。提高固體表面的潤濕性能。旋轉(zhuǎn)式大氣等離子清洗儀器處理寬度直徑：50mm，可選70、30、20mm